家登(3680)：光罩好壞，攸關半導體良率高低 | 全台ATM分佈網

2016年9月12日—首先，先來解釋什麼是光罩(Mask)？光罩在半導體前段製程中的用途，是利用光蝕刻技術，將半導體上形成的圖型，運用光罩做用的原理，複製於晶圓上。

未來3年中國大陸境內高達20座晶圓廠的建廠需求，台灣設備廠商是否有機會分食到相關的商機？答案是：100%會，關鍵原因就在於2009年以來，台積電(2330)未了改善台灣半導體設備自製率僅為4.8%的困境，因此便積極尋找國內可以共同開發的廠商，畢竟競爭對手的韓國，已經企圖要在2020年時達成自製率50%的目標，而此舉，將對台積電造成長期競爭的壓力。

換言之，在經歷長達7年台積電刻意扶植本土廠商的努力，雖然台灣半導體設備廠商的平均水準，仍遠遠落後國際大廠，但在某些利基型的領域上，確實取得重大突破，例如光罩傳輸盒。

首先，先來解釋什麼是光罩(Mask)？光罩在半導體前段製程中的用途，是利用光蝕刻技術，將半導體上形成的圖型，運用光罩做用的原理，複製於晶圓上。這個原理就和我們過去在沖洗照片時，是利用相機將影像儲存在底片，再拿到照相館把影像複製成照片相似。

雖然光罩的優劣，會攸關半導體晶片良率的高低，但由於光罩僅佔半導體設備製程中非常小的一環，國外設備大廠不願投入太多心力在這一塊業務上，因此造成台積電在追求技術升級時，必須得付出昂貴的成本才能獲得國外設備大廠的技術支援。

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